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杨杰

发布时间:2014-09-23
材料学,助理研究员
(Data Last updated July. 1, 2014)
云南大学工程技术研究院光电信息材料研究所
办公室:物理馆316
电子邮件 (E-mail): jie_y@126.com
简历
2002 9月~20067 理学学士学位 (云南大学材料物理专业)
2006 9月~20097 理学硕士学位 (云南大学凝聚态物理专业/硅基光电薄膜生长研究方向)
2009 9月~20131 工学博士学位 (昆明理工大学冶金物理化学专业/硅基低维纳米光电材料研究方向)
20137月~至今 云南大学工程技术研究院光电信息材料研究所
代表论文
1. Jie Yang, Yingxia Jin, Chong Wang, Liang Li, Dongping Tao, and Yu Yang, Evolution of self-assembled Ge/Si island grown by ion beam sputtering deposition, Applied Surface Science, 258 (2012) 3637-3642
2. Jie Yang, Chong Wang, Dongping Tao, Yu Yang, Annealing effects on self-assembled Ge/Si islands prepared by ion beam sputtering deposition, Materials Technology: Advanced performance materials, 27 (2012) 133-135
3. 杨杰,王茺,靳映霞,李亮,陶东平,杨宇,离子束溅射Ge/Si量子点的应变调制生长,物理学报,61 (2012) 016804-7
4. 杨杰,王茺,陶东平,杨宇,斜切基片上溅射生长高密度小尺寸Ge纳米点的研究,功能材料,43 (2012) 1292-1294
5. 杨杰,王茺,欧阳焜,陶东平,杨宇,沉积温度和生长停顿对SiGe多层膜的影响,人工晶体学报,39 (2010) 945-950
6. 杨杰,王茺,陶东平,杨宇,束流密度对Ge/Si量子点溅射生长的影响,功能材料,43 (2012) 2239-2242
讲授主要课程
研究生课程:《计算材料学》
主要研究兴趣
1. 低维纳米半导体材料的研究;
2. 红外光电材料与器件的研究.
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